弊社が提供するプラズマ装置及び関連技術

  装置・技術一覧

（１）大規模直線型マイクロ波プラズマ発生装置
・特徴：
マイクロ波によるメートル級直線型プラズマ発生装置で、各種の大面積表面処理等に応用可能です。マイクロ波導波管モードの長波長特性を利用したもので、 更なるスケールアップも可能です。

• 大規模直線型マイクロ波プラズマ発生装置詳細(hltm)

• 大気圧直線型マイクロ波プラズマによる表面処理 (pdf)

• 技術資料１：プラズマ核融合学会誌 (技術資料一覧参照)

• 技術資料２: A New Method of Line Plasma Production by Microwave in a Narrowed Rectangular Waveguide(技術資料一覧参照)

（２）VHF表面波アフターグローによる低温度プラズマ源
・特徴：
表面波の伝搬下限にアフターグロープラズマを発生させる装置で、究極の低電子温度プラズマが実現できます。次世代のMono-Layerエッチング やLayer-by-LayerCVDのプラズマ源として応用可能です。

• VHF表面波アフターグロープラズマ源技術資料 (pdf)